該技術(shù)采用磁控濺射在不銹鋼基底上沉積鈦膜，并考察其相關(guān)性質(zhì)及影響因數(shù)，確定合適的條件參數(shù)，制得膜厚、附著力等性能都較好的薄膜，進(jìn)而為工業(yè)化大規(guī)模采用濺射制備薄膜材料提供參考數(shù)據(jù)。

    這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)完成了等離子體濺射爐的研制工作，設(shè)計(jì)并獲得了鋼材表面鍍鈦膜的等離子體濺射爐；完成鋼材表面等離子體濺射沉積鍍鈦膜的工藝條件摸索，通過摸索，獲得了設(shè)備的基本性能。研究了不同工藝參數(shù)對(duì)鋼鈦復(fù)合材料性能的影響；研究了較優(yōu)工藝參數(shù)對(duì)鋼鈦復(fù)合材料性能的影響；在固定其他工藝條件的前提下，對(duì)在鋼材表面等離子體鍍鈦膜的各種工藝條件進(jìn)行了優(yōu)選實(shí)驗(yàn)，獲得了各工藝的較優(yōu)值，這些工藝條件分別是：氬氣流量為 20m l/m in、功率 112W、真空度 1.0Pa、鍍膜時(shí)間 100m in、偏壓 150V、靶距 35m m。在上述已優(yōu)化出來(lái)的較優(yōu)工藝條件下進(jìn)行綜合實(shí)驗(yàn)，研究在較優(yōu)工藝條件下制成產(chǎn)品表面及斷面形貌，并對(duì)其耐腐蝕性能和鈦膜在基材上的附著力進(jìn)行表征，結(jié)果發(fā)現(xiàn)制成的鈦膜鍍層的耐腐蝕性、表面裝飾性和附著力均達(dá)到預(yù)定目標(biāo)，可以滿足工程需要。

    目前國(guó)內(nèi)外上雖然有采用等離子體制備鈦合金薄膜的研究報(bào)道，但未見在真空條件下等離子體濺射鍍鈦制備鈦膜不銹鋼復(fù)合材料的研究報(bào)道，因此該方法屬首創(chuàng)。由于鍍鈦不銹鋼復(fù)合材料在科技、國(guó)防和社會(huì)生活等方面的巨大應(yīng)用前景，以及該項(xiàng)目成果與傳統(tǒng)生產(chǎn)方式相比所具有的巨大優(yōu)勢(shì)，使該項(xiàng)目具有廣泛的應(yīng)用前景。該技術(shù)屬于國(guó)內(nèi)先進(jìn)水平，限國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)讓。